氮化鋁陶瓷精密陶瓷構件的應用及性能

鑫騰輝數控是一家致力于研發(fā)先進(jìn)陶瓷精密加工專(zhuān)用CNC數控機床的公司，我們開(kāi)發(fā)了多款可用于氮化鋁陶瓷加工的機床。我們提供從采購和供應到技術(shù)設計和專(zhuān)業(yè)加工，我們提供完整的服務(wù)。

我們的機床產(chǎn)品已經(jīng)被應用在航空航天、光電和核電等零部件生產(chǎn)制造領(lǐng)域。

什么是氮化鋁（AlN）

氮化鋁 (AlN) 是一種有趣的材料，如果需要高導熱性，它是最好的材料之一。結合其出色的電絕緣性能，氮化鋁是許多電氣和電子應用的理想散熱器材料。

氮化鋁的特性

氮化鋁是（主要）共價(jià)鍵合的材料，具有六方晶體結構，與稱(chēng)為纖鋅礦的多型硫化鋅之一同構。該結構的空間群是 P63mc。

該材料在惰性氣氛中的非常高的溫度下是穩定的。在空氣中，700℃以上會(huì )發(fā)生表面氧化，即使在室溫下，也檢測到5-10nm的表面氧化層。該氧化層可在高達 1370 °C 的溫度下保護材料。高于此溫度會(huì )發(fā)生本體氧化。氮化鋁在高達 980 °C 的氫氣和二氧化碳氣氛中是穩定的。

該材料通過(guò)晶界侵蝕緩慢溶解在無(wú)機酸中，并通過(guò)侵蝕氮化鋁晶粒在強堿中溶解。該材料在水中緩慢水解。氮化鋁可抵抗大多數熔鹽（包括氯化物和冰晶石）的侵蝕。

氮化鋁是通過(guò)氧化鋁的碳熱還原或通過(guò)鋁的直接氮化合成的。需要使用燒結助劑和熱壓來(lái)生產(chǎn)致密的工業(yè)級材料。

氮化鋁的應用

金屬化方法可以使氮化鋁用于類(lèi)似于氧化鋁和氧化鈹的電子應用。

目前，有很多研究使用氮化鎵基半導體開(kāi)發(fā)在紫外線(xiàn)下工作的發(fā)光二極管，并且已經(jīng)報道了使用合金氮化鋁鎵，波長(cháng)短至 250 nm。 2006 年 5 月，報告了 210 nm 的低效 LED 發(fā)射。單晶 AlN 的帶隙測量值（使用真空紫外反射率）為 6.2 eV。原則上，這允許實(shí)現大約 200 nm 的波長(cháng)。然而，如果這種發(fā)射器要成為商業(yè)現實(shí)，還有許多困難需要克服。

氮化鋁的工業(yè)用途

光電、

光存儲介質(zhì)中的介電層，

需要高導熱性的電子基板、芯片載體，

軍事應用。

由于氮化鋁的壓電特性，外延生長(cháng)的結晶氮化鋁也用于沉積在硅晶片上的表面聲波傳感器 (SAW)。很少有地方可以可靠地制造這些薄膜。安捷倫經(jīng)過(guò)十多年的研究，現已擁有一款用于手機的射頻濾波器，稱(chēng)為 FBAR。這項技術(shù)與在 MEMS 領(lǐng)域工作的工程師密切相關(guān)。